一直以来，我国的半导体行业都深受西方国家的制约，究其原因就是我们缺乏先进的光刻机。如果美国断供我们芯片，我们有华为，展讯，紫光，中芯；如果美国限制台积电等代工厂，国内的中芯国际可以顶一顶。虽然国产芯片性能差了很多，但也不至于完全束手无策。

不过，倘若美国限制荷兰ASML的光刻机卖给我们，那国内的半导体行业就真的要陷入寒冬了。

光刻机作为科技工业的集大成之作，需要几千家供应商和一套完整的整合体系，才能生产出来，它也被誉为半导体工业皇冠上的明珠。目前在世界范围内，荷兰ASML公司的光刻机是最先进的，已经达到了5nm工艺。

而我国尚未形成完整的产业链，需要技术攻关的地方还有很多。当下最先进的国产光刻机还停留在90nm阶段，和ASML的5nm差距十分明显。

不过，最近上海微电子装备(集团)股份有限公司宣布，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。这台28nm光刻机大幅缩小了我国和荷兰的差距，在我国半导体行业发展上具有里程碑式的意义。

别看28nm和ASML的5nm隔着好几代的差距，但它已经是世界第二的水准了。（之前排第二的日本尼康仅能生产55nm。）而且在光刻机制程上，28nm是一个瓶颈，突破了28nm，接下来生产十几nm，甚至是10nm以内都会相对容易一些。万事开头难，产品迭代一旦开始，人才体系，资金扶持会源源不断地涌入。我国的光刻机研发也将迎来快速发展阶段，从步履瞒珊到一路小跑。

当然，我们必须认识到，除了7nm光刻机，卡尔蔡司的镜头，瑞典的步进电机，美国的激光光源，我们暂时还无法完成国产化，仍需要很长一段时间的攻关。但我们依然可以相信，光刻机的发展道路是曲折的，前途是光明的。

中国是一个善于创造奇迹的国家，哪怕再怎么技术封锁，两弹一星、核潜艇、载人航天，我们照样一个不落都有了。光刻机也不例外，总有一天我们会告别无芯之疼，不再受美国制约。